光刻机全球最贵的工业设备，能决定一个国家的芯片命运。 荷兰光刻机巨头ASML垄断了最先进的EUV光刻技术，可是就在最近荷兰专家马克·海金克公开预言：中国可能在10年内造出EUV光刻机，追上ASML。

一台EUV光刻机，包含10万个零件、3千根电线、2公里长的软管，组装误差不超过一根头发丝的千分之一。

它的核心是波长13.5纳米的极紫外光，这种光需要把液态锡滴打成比头发丝还细的颗粒，再用激光轰击50次/秒，才能产生足够能量。

全球只有ASML和美国Cymer公司掌握这项技术。

ASML的股东包括英特尔、台积电和三星，这三家每年贡献ASML超70%的订单。 美国《芯片法案》更直接规定：任何使用美国技术的企业，向中国出售EUV设备必须获得许可。 2022年，ASML对华销售额占比14.7%（约21.6亿欧元），但EUV设备至今零交付。

买不到EUV，中国企业被迫用老款DUV光刻机“叠buff”。 中芯国际的7nm芯片，就是用ASML的1980Di型号DUV光刻机，通过多重曝光技术实现的。 这套方案有多难？ 相当于用铅笔反复描同一道线，只要有一次手抖，整张纸就废了。

一条DUV产线投资超150亿美元，是EUV方案的1.5倍。 更麻烦的是，DUV生产7nm芯片的良率只有50%-60%，而台积电用EUV生产同样芯片的良率超过95%。

2023年，中芯国际7nm芯片的客户只有矿机公司和少量低端手机厂商，华为Mate 60的麒麟9000S芯片仍依赖库存DUV设备生产。

买不到光刻机，中国开始猛攻芯片制造的其他环节。 北方华创的刻蚀机已打入台积电5nm产线，中微半导体的介质刻蚀设备市占率全球前三，盛美半导体的清洗设备被三星用于存储芯片生产。 这些“不起眼”的设备，撑起了中国芯片制造的半边天。

2023年，中国进口了价值3470亿元的二手半导体设备，比2022年暴涨387%。 这些被日韩淘汰的机器，经过中国工程师改造后，寿命延长了3-5年。

上海微电子的28nm DUV光刻机，核心镜头来自德国蔡司，但软件控制系统已100%国产化。

2023年，中国半导体专利申请量占全球55%，其中光刻技术相关专利增速第一。 华为公开了一项“反射镜镀膜”专利，能把EUV光反射率从70%提高到90%；清华大学研发的等离子体光源，理论上可替代ASML的激光轰击锡滴方案。

ASML前员工透露，中国公司开出的薪资是ASML的3倍，过去三年至少有50名工程师跳槽到上海微电子和华为。 荷兰安全局为此警告ASML：“中国正在用一切手段获取光刻机密。 ”

2023年Q4，中国采购了ASML 62%的DUV光刻机。 但ASML的CEO温宁克多次警告：“中国迟早会造出自己的光刻机。 ”

在2024年1月的时候，美国政府要求ASML停止向中国出售部分DUV设备，直接导致ASML股价单日暴跌8%。

2023年12月，中国商务部突击检查ASML上海分公司，扣押部分设备作为“反制措施”。

荷兰《电讯报》称：“ASML正成为中美科技战的夹心饼干。 ”而中国客户开始转向日本尼康和佳能。这两家公司已接到中国50台光刻机订单，创下十年新高。

ASML的EUV设备需要中国稀土（钕、镧）来制造激光器，而中国芯片厂需要ASML的设备维持产能。

但当美国把科技问题政治化，中国工程师在实验室里24小时轮班攻克光源，ASML在财报会议上反复解释“为何不能失去中国市场”。 或许正如ASML工程师私下吐槽：“我们卖的是机器，不是核弹。 ”